Description
Проверенная временем система осаждения Titan Deposition представляет собой систему осаждения с блокировкой нагрузки и вакуумным кассетным подъемником. Он может быть настроен на PECVD, HDCVD, PVD или ALD. Осаждение на Титан обеспечивает инновационные и передовые процессы на малой площади и по доступной цене.
Разработаны стандартные производственные процессы для многократного нанесения SiOx, SiNx, SiC и a-Si. Все это опирается на более чем 25-летний опыт быстрого развития процессов.
Особенности системы:
Управление ПЛК и сенсорным экраном
Электростатический или механический патрон
Активный контроль температуры субстрата
Вакуумный кассетный лифт
Опциональный лазер и оптические конечные точки
