Описание
Зона испарения Ø 5 до 20 mm
Монитор потока
Интегрированная штарка
Задн-нагрузка evaporant
EFM 3 для VT SPM и для пакетов лт SPM
Продукт ФОКУСА
EFM 3 конструировано для роста тонкой пленки и эпитаксии молекулярного луча. Sub-монослой и разнослоистые системы можно произвести при тарифы испарения меняя от монослоя 1/10 в минуту до над 1000 монослоев в секунду. Водяное охлаждение обеспечивает низкое давление предпосылки (типично в ряде 10-10 mbar) во время испарения – и таким образом позволяет росту ультра-чисто пленок.
Точно определенный evaporant луч позволяет высоки равномерному низложению на образце. Зона низложения определена выбором 3 различных легко exchangeable выходных апертур и расстоянием от источника к образцу.
Часть evaporant луча ионизирована. Когда эти ионы ударяют субстрат, они могут создать дефекты в поверхности субстрата и депозировать энергию. Во избежание это EFM 3-ье мая выборочно быть оборудованным с усмирителем иона который отталкивает ионами назад в EFM.
